九十年代中期，随着晶圆生产线线宽的进一步降低，193nm波长的 DUV 激光开始崭露头角，Duv激光也是著名的ArF准分子激光，包括治疗近视眼手术在内的多种跨行业工程应用都使用这种激光，相关激光发生器和光学镜片等技术都比较成熟。
在电子产业庆幸193nm光源由于应用范围极广导致研发成本降低的愉悦压根就没享受几天，光刻光源的缩短之旅直接被卡在193nm无法进步。
从九十年代中期开始，直到梁远偷渡之前，光刻机的光源一直维持在193nm已经接近二十年，可以说直到某人偷渡位面那一刻，全球所有主流手机、电脑、平板、超级计算机、显卡、路由器的主芯片仍旧是193nm光源光刻出来的，193nm光源成了人类信息时代超高速发展中第一块顽固不变的基石。
自1975年摩尔定律或者叫做摩尔预言成熟起，全球半导体产业沿着摩尔博士给出的这条科技大路一路狂奔了二十多年，直到二十世纪的末期才撞上了一道无法突破的铁壁～～193nm，光刻机光源在这个波长上卡了足有小二十年，英特在世纪之交被吐槽成牙膏厂只是光刻机技术停步不前时消费领域产生的一线反应而已。
自九十年代中期开始，科学家和电子产业界提出了各种超越 193nm 的方案，其中包括 157nm F2 激光，电子束投射(EPL)，离子投射(IPL)、EUV(13.5nm)和 X 光，几年的发展之后在世纪之交形成了几大技术阵营。
157nm F2：每家大型光刻公司都在研究，但唯独东洋尼康第一个推出了达到商用标准的产品。
157nm 光会被现有主流193nm机器所用的镜片吸收，光刻胶也要重新研制，所以产线改造难度极大，几乎是另起炉灶的重新再来，而157nm光源对 193nm的波长进步只有不到 25%，研发投入产出比实在太低。
也不知道东洋是幸还是不幸，得益于其国民性的工匠精神死磕波长缩短的尼康属实伟大，第一个解决了困扰世界十来年的光源波长问题。
但可惜的是，彼时华人科学家林本坚博士光刻胶上加水的创意已经把193光源的波长通过折射直接变成137nm未来更把193光源的线宽直接推进到了十纳米以下，直接把尼康投入巨资所研发的技术毫无悬念的送回了老家。
这件事绝对可以载入人类电子产业的发展史，可以说
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